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# 精密・測定機器
情報確認日2024/5/14
ニューフレアテクノロジー
ソフトウェア開発設計＜電子線マスク検査装置＞
求人情報
| 年収 | 420万円～1100万円 |
|---|---|
| 勤務地 | 神奈川県横浜市新杉田町8-1 |
| 職務内容 |
■マスク検査装置のソフトウェア開発の以下の業務を担当いただきます。 ・電子線マスク検査装置の検査ソフトウエアの開発・設計業務 ・DUVマスク検査装置の検査ソフトウエアの開発・設計業務 ・上記マスク検査装置の機器制御・通信ソフトウェアの開発・設計業務 ・欠陥検査アルゴリズムのソフトウェア実装及び検証業務 ※入社時はスキル、経験を考慮して上記業務のいずれかを担当していただきます。 【具体的には】 ・装置の動作を把握したうえでのシステム設計（要件定義・仕様設計などの上流工程） ・Linux計算機上での開発（C言語 一部Windows） ・コーディングは外注し、出来上がったコードのチェック ・装置を動作させながらのデバッグ及び外注へのフィードバック 【入社後お任せしたい業務】 まずは装置の周辺機器である、検査結果をレビューするオフラインツール、マスクの設計データを管理するサーバなどから業務を取り組んでいただきます。 また実際に装置を使っていただくなどして慣れていただき、徐々にコアとなるソフト開発に関わっていただくことを想定しております。 【自社製品の強み】 同社検査装置は高い検査速度を維持した状態で目的とする検査を実行でき、また設計データを基準としたデータ検出検査が可能なことが強みとなります。 |
| 必要な経験・資格 |
【必須要件】 ■Linux環境でC／C++を含む言語を使用したソフトウェア開発の経験がある方。 【歓迎要件】 ■機器制御を伴うソフトウェアの開発経験がある方。 ■SEMI規格準拠のソフトウェア開発経験がある方。 ■組み込み系のファームウェアの開発経験がある方。 ■英語での技術的なコミュニケーションができる方。 |
| 雇用条件 |
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| 教育・研修制度 | ・教育研修制度 ほか 【定年】60歳、再雇用：65歳まで |
企業情報
| 基本情報 |
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|---|---|
| 事業内容・沿革 | ■電子ビームマスク描画装置、マスク検査装置、エピタキシャル成長装置の開発・製造・販売 ＜沿革＞ 1976年 （株）東芝から東芝機械（株）へ、半導体製造装置事業の技術移管を実施 2002年 東芝機械（株）半導体装置事業部の事業を包括継承し、（株）ニューフレアテクノロジーとして事業を開始 2007年 ジャスダック証券取引所へ上場 2009年 韓国現地法人設立 2013年 第59回大河内記念生産特賞を受賞 2015年 厚生労働大臣表彰・奨励賞を受賞 2014年 米国現地法人「NuFlare Technology America， Inc.」設立 2020年 東芝デバイス＆ストレージ（株）の100％子会社となる（東証JASDAQスタンダード上場廃止）。経済産業省「グローバルニッチトップ100選」選定 |
| 企業の特徴 | 【概要・特徴】 東芝デバイス＆ストレージ（株）100％子会社の半導体装置専業メーカー。2002年に東芝機械（株）から半導体装置事業を継承して以来、半導体製品の製造に用いられる最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置の設計、開発、製造、販売、保守を行なっています。電子ビームマスク描画装置は、LSI（大規模集積回路）製造工程に必要なことから定期的に機器の入れ替えがあるため、半導体業界のシリコンサイクルに影響されることのない安定した需要が見込まれています。 【強み】 世界トップレベルの描画精度を有しており、電子ビームマスク描画装置の世界シェア1位（90％以上）であることが強み（自社調べ）。半導体の多くが同社の電子ビームマスク描画装置を使って量産されており、半導体市場を支えています。また、2020年の世界の半導体市場規模は48兆円（前年比8.4％増）。2021年の日本製半導体製造装置販売額は2兆9，200億円（前年度比22.5％増）と予測されており、市場も活況をみせています。 【技術力】 電子ビームマスク描画装置第1号機の開発を基点に、最先端デバイス用の回路パターンをフォトマスク上に高速・高精度で描画できる電子光学系を自社で開発しました。現在は、電子ビームをナノメーター単位で制御し、東京タワーから富士山頂にある1.6ｍｍの的を射抜くほどの高精度なレーザー技術を有しています。 |
| 待遇・福利厚生 |
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コンサルタントコメント
同社は半導体製造工程において最上流工程のシェア約100％を占めます。最上流工程を扱うことで技術レベルは業界内でも高い位置に有り、常に人類未踏の技術にチャレンジしています。
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