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# 工作・製造機械
情報確認日2024/2/28
ニューフレアテクノロジー
機械制御システムの電気設計及び制御設計<電子ビームマスク描画装置>
求人情報
年収 | 400万円~1100万円 |
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勤務地 | 神奈川県横浜市新杉田町8番1 |
職務内容 |
■同社の主力製品である電子ビームマスク描画装置におけるメカトロニクス部分の制御系システムの制御装置の開発、設計業務をお任せいたします。 具体的にはマスクステージおよびマスク搬送ユニットの制御システムとなり、下記の業務をご経験に合わせてご担当いただきます。 (1)マスクステージ制御システム、およびマスク搬送制御システムの開発 ・アクチュエータ/コントローラ/センサー等の調査・選定 ・機構部の要素開発 ・制御シーケンスの設計 (2)上記システムの電気設計(ハード設計/ソフト設計)及び制御設計 ・制御用I/F基板や制御ユニットの設計 ・ハーネス設計 ・制御用ソフトウェアの設計 (3)上記システムの評価・デバッグ ・開発試験(プロト機)の立ち上げ、調整、性能試験 次世代、次々世代の装置に搭載する新しい要素技術の開発に携わることができ、試験機を立ち上げ、自ら評価することもございます。 例えば、直近では予兆保全の技術開発がトレンドであり、装置に搭載したアクチュエータやモーターなどの劣化を予測するためのモニターシステム開発を行っており、お客様の生産計画に貢献できるような、メンテナンスサイクルを把握できるシステム開発に注力しております。 【入社後まずは】 入社後は上記(2)マスクステージ制御、もしくはマスク搬送制御ユニットの電気設計や(3)評価業務、評価用のツール作成から取り組んでいただき、慣れてきたタイミングから徐々に(1)機械制御系システムの開発業務をお任せいたします。イメージとしては外堀の部分から業務を習得いただき、徐々にコアな業務をお任せするような流れとなります。 |
必要な経験・資格 |
【必須要件】※下記のいずれかに当てはまる方 ・制御機器を用いたシステム、装置の制御設計経験をお持ちの方 ・PLCの制御設計、デバッグ、評価業務経験をお持ちの方 ※制御機器:組み込み用OS(組み込みLinuxやRaspberry Pi等)を用いたモーションコントローラやロボット等 ※上記は学生時代の経験でも問題ございません 【歓迎要件】 ・制御機器やネットワーク通信等のソフト設計、コーディング経験をお持ちの方 ※使用言語は不問です。自分自身でコーティング(実装)できなくとも、ソフトウェアの仕様が作成できればOKです。 ・アナログ/デジタル回路設計経験をお持ちの方 ※自分自身で回路CAD図を書けなくとも、回路図を見て内容が理解できればOKです。 ・英語で読み書きできる方 |
雇用条件 |
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教育・研修制度 | ・教育研修制度 ほか 【定年】60歳、再雇用:65歳まで |
企業情報
基本情報 |
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事業内容・沿革 | ■電子ビームマスク描画装置、マスク検査装置、エピタキシャル成長装置の開発・製造・販売 <沿革> 1976年 (株)東芝から東芝機械(株)へ、半導体製造装置事業の技術移管を実施 2002年 東芝機械(株)半導体装置事業部の事業を包括継承し、(株)ニューフレアテクノロジーとして事業を開始 2007年 ジャスダック証券取引所へ上場 2009年 韓国現地法人設立 2013年 第59回大河内記念生産特賞を受賞 2015年 厚生労働大臣表彰・奨励賞を受賞 2014年 米国現地法人「NuFlare Technology America, Inc.」設立 2020年 東芝デバイス&ストレージ(株)の100%子会社となる(東証JASDAQスタンダード上場廃止)。経済産業省「グローバルニッチトップ100選」選定 |
企業の特徴 | 【概要・特徴】 東芝デバイス&ストレージ(株)100%子会社の半導体装置専業メーカー。2002年に東芝機械(株)から半導体装置事業を継承して以来、半導体製品の製造に用いられる最先端の電子ビームマスク描画装置やマスク検査装置、エピタキシャル成長装置の設計、開発、製造、販売、保守を行なっています。電子ビームマスク描画装置は、LSI(大規模集積回路)製造工程に必要なことから定期的に機器の入れ替えがあるため、半導体業界のシリコンサイクルに影響されることのない安定した需要が見込まれています。 【強み】 世界トップレベルの描画精度を有しており、電子ビームマスク描画装置の世界シェア1位(90%以上)であることが強み(自社調べ)。半導体の多くが同社の電子ビームマスク描画装置を使って量産されており、半導体市場を支えています。また、2020年の世界の半導体市場規模は48兆円(前年比8.4%増)。2021年の日本製半導体製造装置販売額は2兆9,200億円(前年度比22.5%増)と予測されており、市場も活況をみせています。 【技術力】 電子ビームマスク描画装置第1号機の開発を基点に、最先端デバイス用の回路パターンをフォトマスク上に高速・高精度で描画できる電子光学系を自社で開発しました。現在は、電子ビームをナノメーター単位で制御し、東京タワーから富士山頂にある1.6mmの的を射抜くほどの高精度なレーザー技術を有しています。 |
待遇・福利厚生 |
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コンサルタントコメント
■日系の最先端半導体製造装置メーカーです。