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# 工作・製造機械

更新日2016.11.13

日本エー・エス・エム(日本ASM)

電気回路設計<半導体製造装置>

求人情報

年収 550万円~800万円
勤務地 東京都多摩市
職務内容 ■半導体製造装置及び関連製造装置の電気回路設計業務に従事していただきます。
必要な経験・資格 【応募要件】
■半導体製造装置の電気回路設計経験を5年以上お持ちの方
■英語力をお持ちの方
※仕様書の読解、海外エンジニアとのコミュニケーション、電話会議などで語学が求められます。
雇用条件
雇用形態
:正社員
転勤の有無
:場合により有り
就業時間
:9:00~17:30
給与形態
:月給制
教育・研修制度 OJT、新入社員教育、半導体基礎教育、技術研修、各種社内外セミナー、他

企業情報

基本情報
設立
:1982年
従業員数
:200名
資本金
:46億円
事業内容・沿革 ■プラズマCVD装置(薄膜形成装置)およびALDなど関連製造装置の研究開発、製造、販売、技術サービス
■グループ企業の装置(エピタキシャル成長装置、減圧CVD装置)の輸入販売、技術サービス

<沿革>
1968年  Arthur H. del PradoによりオランダのBilthovenに設立。ウェハプロセス関連装置および組立工程用部品の販売を開始
1976年  ASM/America Inc.を設立。米国内にて、CVD装置、測定装置の製造販売を開始
1981年  ASM International N.V.が、米国証券市場に上場。米国にてElmont Internationalを買収し、ASM/Plating Ltd.を設立
1982年  日本エー・エス・エム株式会社を設立 米国に、Epsilon Technology,Inc.を設立
1989年 日本エー・エス・エム新本社及びR&Dセンター竣工(東京都多摩市)
企業の特徴 【概要・特徴】
薄膜生成プロセスにおいて高い品質と技術力を誇る外資系半導体製造装置メーカーです。 同社は半導体(IC・LSI)製造工程の中でその集積度や品質の鍵を握る『薄膜生成』プロセスにて高い技術力(CVD技術)を持っており、国内だけでなく、海外でも主要半導体メーカーにて同社装置と開発プロセスが採用されています。※プラズマCVD装置・縦型減圧CVD装置で業界3位、エピタキシャル成長装置では業界1位のシェアを誇っております。 プラズマCVD装置・縦型減圧CVD装置で業界3位、エピタキシャル成長装置では業界1位のシェアを誇っています。製品ごとに主要開発拠点があり、日本はCVD装置の開発拠点です。

【強み】
日本において研究開発から製造・部品調達、カスタマイズまで行えることが強みです。オランダ、米国、日本の3カ所に研究施設を備えており、お互い技術を磨き高め合い、オーバーラップしながらグローバルな販売活動を展開しており、各地域でのニーズや要望にスピーディに対応が可能です。

【注力分野】
回線幅22~15nm対応の成膜装置の市場投入を開始しており、同時に回線幅10~5対応の装置の開発に着手しています。特に回路内の省電力化を図るSiGe, SiC等でのHigh-k膜の形成を可能とするプラズマALD装置の開発拡充を進めています。
待遇・福利厚生
保険
:健康保険、雇用保険、労災保険、厚生年金
諸手当
:通勤手当、住宅手当、家族手当、通勤手当、住宅手当、家族手当、資格手当
休日休暇
:年間134日/(内訳) 完全週休二日制(土、日)、夏季休暇5日+有給休暇5日、年末年始休暇6日
その他
:昇給1回、賞与年2回、退職金制度、財形貯蓄制度、資格取得制度、

コンサルタントコメント

■日系よりのアットホームな職場です。中途採用をメインに行っていますが、平均勤続年数は12.7年、離職率4%。転勤も基本ありません。安定した企業で働きたい方におススメです。
■同社は世界14か国、21拠点のグローバルの中でも重要拠点の役割を担っています。開発拠点を本社オランダ、日本、アメリカの3拠点にて行っていますが、日本では「CVD製造装置、ALD製造装置」の開発拠点の役割を担っています

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